標(biāo)準(zhǔn)解讀
《GB/T 21636-2008 微束分析 電子探針顯微分析(EPMA) 術(shù)語》是中國國家標(biāo)準(zhǔn)之一,主要針對(duì)電子探針顯微分析領(lǐng)域內(nèi)的專業(yè)術(shù)語進(jìn)行了定義和規(guī)范。該標(biāo)準(zhǔn)的制定旨在統(tǒng)一行業(yè)內(nèi)對(duì)于相關(guān)概念的理解與使用,促進(jìn)技術(shù)交流和技術(shù)文檔的一致性。
標(biāo)準(zhǔn)中涵蓋了從基本原理到具體操作方法、設(shè)備組件等多個(gè)方面的術(shù)語,包括但不限于電子束與樣品相互作用產(chǎn)生的信號(hào)類型(如二次電子、背散射電子、特征X射線等)、探測器種類及其工作原理、定量分析方法(如ZAF修正法)以及圖像處理技術(shù)等。通過這些定義,使用者能夠準(zhǔn)確地理解每項(xiàng)技術(shù)和過程中所涉及的專業(yè)詞匯含義,有助于提高科研報(bào)告、學(xué)術(shù)論文及日常溝通中的表達(dá)精確度。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
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- 被代替
- 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替,建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 21636-2021
- 2008-04-11 頒布
- 2008-10-01 實(shí)施
文檔簡介
犐犆犛01.040.71;71.040.99
犌04
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)
犌犅/犜21636—2008/犐犛犗23833:2006
微束分析
電子探針顯微分析(犈犘犕犃)術(shù)語
犕犻犮狉狅犫犲犪犿犪狀犪犾狔狊犻狊—
犈犾犲犮狋狉狅狀狆狉狅犫犲犿犻犮狉狅犪狀犪犾狔狊犻狊(犈犘犕犃)—犞狅犮犪犫狌犾犪狉狔
(ISO23833:2006,IDT)
20080411發(fā)布20081001實(shí)施
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局
發(fā)布
中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
書
犌犅/犜21636—2008/犐犛犗23833:2006
前言
本標(biāo)準(zhǔn)等同采用國際標(biāo)準(zhǔn)ISO23833:2006《微束分析電子探針顯微分析(EPMA)術(shù)語》
(英文版)。
為了便于使用,本標(biāo)準(zhǔn)做了下列編輯性修改:
———5.7.5的注中對(duì)ISO23833:2006勘誤將“犣>43”改為“犣>4”;
———?jiǎng)h除了法文版。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出并歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位:全國微束分析標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:林卓然、李香庭、李戎、朱衍勇、莊世杰、柳得櫓。
Ⅰ
書
犌犅/犜21636—2008/犐犛犗23833:2006
引言
電子探針顯微分析(EPMA)是微束分析技術(shù)中一個(gè)應(yīng)用極為廣泛的領(lǐng)域,是在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)、基礎(chǔ)工
業(yè)、農(nóng)業(yè)、冶金、地質(zhì)、生物、醫(yī)藥衛(wèi)生、環(huán)境保護(hù)、商檢貿(mào)易乃至刑事法庭等行業(yè)中需要通過各種材料或
產(chǎn)品的微米尺度成分和結(jié)構(gòu)分析來進(jìn)行質(zhì)量管理和質(zhì)量檢驗(yàn)所不可缺少的技術(shù)手段。
電子探針顯微分析(EPMA)是一門綜合性的技術(shù),涉及物理、化學(xué)、電子學(xué)等廣泛術(shù)語。本標(biāo)準(zhǔn)只
限于定義電子探針顯微分析(EPMA)標(biāo)準(zhǔn)化實(shí)踐中使用和直接有關(guān)的術(shù)語,其內(nèi)容包括:
電子探針顯微分析用一般術(shù)語定義;
描述電子探針顯微分析儀器的術(shù)語定義;
用于電子探針顯微分析方法的術(shù)語定義。
本標(biāo)準(zhǔn)是微束分析技術(shù)領(lǐng)域中為了適應(yīng)電子探針顯微分析(EPMA)標(biāo)準(zhǔn)化實(shí)踐的基本需要而制定
的第一個(gè)術(shù)語標(biāo)準(zhǔn)。掃描電子顯微鏡(SEM),分析電子顯微鏡(AEM),X射線能譜儀(EDS)等其他領(lǐng)
域的術(shù)語標(biāo)準(zhǔn)也會(huì)相繼制定。
Ⅱ
犌犅/犜21636—2008/犐犛犗23833:2006
微束分析
電子探針顯微分析(犈犘犕犃)術(shù)語
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)定義了電子探針顯微分析(EPMA)實(shí)踐中使用的術(shù)語,包括一般概念的術(shù)語和按技術(shù)等級(jí)
分類的具體概念的術(shù)語。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于所有有關(guān)電子探針顯微分析(EPMA)實(shí)踐的標(biāo)準(zhǔn)化文件,部分適用于相關(guān)領(lǐng)域[例如:
掃描電子顯微鏡(SEM),分析電子顯微鏡(AEM),X射線能譜儀等]的標(biāo)準(zhǔn)化文件,用于定義共用的術(shù)語。
2縮略語
BSEbackscatteredelectron背散射電子
CRMcertifiedreferencematerial有證參考物質(zhì)、標(biāo)準(zhǔn)樣品
EDSenergydispersivespectrometer能譜儀
EDXenergydispersiveXrayspectrometry能譜法
EPMAelectronprobemicroanalysisorelectronprobemi電子探針顯微分析或電子探針顯微
croanalyzer分析儀
eVelectronvolt電子伏特
keVkiloelectronvolt千電子伏特
SEsecondaryelectron二次電子
SEMscanningelectronmicroscope掃描電子顯微鏡
WDSwavelengthdispersivespectrometer波譜儀
WDXwavelengthdispersiveXrayspectrometry波譜法
3電子探針顯微分析用一般術(shù)語定義
3.1
電子探針顯微分析犲犾犲犮狋狉狅狀狆狉狅犫犲犿犻犮狉狅犪狀犪犾狔狊犻狊;犈犘犕犃
根據(jù)聚焦電子束與試樣微米至亞微米尺度的體積相互作用激發(fā)X射線的譜學(xué)原理,對(duì)電子激發(fā)體
積內(nèi)的元素進(jìn)行分析的技術(shù)。
3.1.1
定性電子探針顯微分析狇狌犪犾犻狋犪狋犻狏犲犈犘犕犃
通過標(biāo)識(shí)X射線譜峰的方法來鑒別試樣電子激發(fā)體積中元素組成的電子探針顯微分析方法。
3.1.2
定量電子探針顯微分析狇狌犪狀狋犻狋犪狋犻狏犲犈犘犕犃
對(duì)電子束激發(fā)區(qū)定性分析所鑒定的元素進(jìn)行濃度測定的電子探針顯微分析方法。
注:定量分析可以在相同條件下,對(duì)測量的未知試樣X射
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