標準解讀

GB/T 20724-2006 是一項中國國家標準，全稱為《薄晶體厚度的會聚束電子衍射測定方法》。該標準詳細規定了利用會聚束電子衍射技術來測定薄晶體樣品厚度的方法原理、實驗條件、操作步驟、數據處理以及測量精度評估等內容。下面是該標準的主要內容概述：

標準適用范圍

本標準適用于使用透射電子顯微鏡(TEM)中的會聚束電子衍射技術，對厚度在納米尺度范圍內的薄晶體樣品進行非破壞性測量。這些樣品通常用于材料科學、半導體技術、納米技術和生物醫學研究等領域。

基本原理

  • 會聚束電子衍射：與傳統的平行束電子衍射不同，會聚束電子衍射技術采用聚焦電子束照射樣品，產生衍射花樣。這種方法能提供更高空間分辨率的信息，適用于超薄樣品的分析。
  • 布拉格方程：是分析衍射圖案的基礎，用于計算晶體平面間距，進而通過特定模型估算樣品厚度。

實驗條件與設備

  • 透射電子顯微鏡：需要具備高分辨成像和會聚束電子衍射功能。
  • 樣品制備：樣品需薄且均勻，通常通過超薄切片、離子減薄等方法制備。
  • 電子束參數：包括束流強度、會聚半角、加速電壓等，應根據樣品特性進行優化設定。

測量步驟

  1. 樣品安裝：將制備好的樣品放置于TEM的樣品臺上，并確保其穩定。
  2. 調整束流：調節電子束的會聚程度，以獲得適宜的衍射條件。
  3. 采集衍射圖像：記錄電子束照射樣品產生的衍射花樣，可能包括選取特定區域或全視場掃描。
  4. 數據解析：根據衍射斑點的位置、強度分布，應用相應的理論模型和計算方法確定晶體的面間距，進一步推算樣品的厚度。

數據處理與精度評估

  • 圖像處理軟件：使用專門軟件對獲取的衍射圖像進行分析，包括斑點識別、標定等。
  • 誤差分析：考慮儀器精度、樣品不均勻性、電子束散射等因素，評估測量結果的不確定度。

結果表達與報告

標準要求測量結果應清晰表述，包括但不限于樣品基本信息、實驗條件、測量值及其不確定度，并建議提供衍射圖樣作為附件，以便復核驗證。


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  • 被代替
  • 已被新標準代替，建議下載現行標準GB/T 20724-2021
  • 2006-12-25 頒布
  • 2007-08-01 實施
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ICS71.040.99N53中華人民共和國國家標準GB/T20724—2006薄晶體厚度的會聚束電子衍射測定方法Methodofthicknessmeasurementforthincrystalbyconvergentbeamelectrondiffraction2006-12-25發布2007-08-01實施中華人民共和國國家質量監督檢驗檢疫總局發布中國國家標準化管理委員會

中華人民共和國國家標準薄晶體厚度的會聚束電子衍射測定方法GB/T20724-2006中中國標準出版社出版發行北京西城區復興門外三里河北街16號郵政編碼：100045.en電話：010)51299090.685220062007年6月第一版書號：155066·1-29497版權專有侵權必究舉報電話：（010)68522006

GB/T20724一2006前本標準由全國微束分析標準化技術委員會提出本標準由全國微束分析標準化技術委員會歸口.本標準起草單位：北京科技大學。本標準主要起草人:柳得檐。本標準為首次制定

GB/T20724-2006薄晶體厚度的會聚束電子衍射測定方法范圍本標準規定了用透射電子顯微鏡測定薄品體試樣厚度的會聚束電子衍射方法。本方法適用于測定線度為10-°m～0.1×10-3m、厚度在幾十至幾百納米范圍的薄晶體厚度規范性引用文件下列文件中的條款通過本標準的引用而成為本標準的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有的修改單(不包括勒誤的內容)或修訂版均不適用于本標準.然而，鼓勵根據本標準達成協議的各方研究是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標準。GB/T18907—2002透射電子顯微鏡選區電子衍射分析方法術語和定義下列術語和定義適用于本標準31會聚束電子衍射convergentbeamelectrondiffraction（CBED)一種電子衍射方法,由電子槍發射的高能電子束被會聚成直徑很小而孔徑角較大(通常大于10-弧度)的照明束照射試樣,所得到的衍射圖由具有一定尺寸的衍射圓盤與直射圓盤組成，在衍射盤內出現衍射條紋襯度。3.2薄晶體試樣ethincrystalspecimen能夠置放在透射電子顯微鏡試樣臺上并對高能照明電子束透明的品體試樣33萃取復型試樣lextractionreplicaspecimen應用化學或電化學方法將固態試樣表面形貌或顯微組織復制在復型材料上,同時把試樣中的第二相顆粒萃取在該復型上的一種試樣3.4Kossel-Millenstedt衍射圖Kossel-Millenstedtpattern衍射盤與直射盤沒有重疊，而且盤內呈現衍射襯度的一種會聚束電子衍射圖3.5雙束近似twobeamapproximation進行電子衍射實驗時,使晶體試樣僅有一列品面(hi)滿足布拉格反射條件的一種近似條件原理在透射電子顯微鏡中的薄晶體試樣被會聚電子束照射時,產生會聚束電子衍射圖。利用雙束近似條件下衍射盤內的Kossel-Mollenstedt條紋可精確測定薄品體試樣微區的厚

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