GB/T 9797-1997金屬覆蓋層鎳+鉻和銅+鎳+鉻電沉積層

1825.220.40A29中華人民共和國國家標準GB/T9797-1997eqvISO1456：1988金屬覆蓋層鎳十鉻和銅十鎳十鉻電沉積層MetalliccoatingsElectrodepositedcoatingsofnickelpluschromiumandofcopperplusnickelpluschromium1997-06-27發布1998-01-01實施國家技術監督局發布

GB/T9797-1997前吉本標準是根據ISO1456:1988《金屬覆蓋層——鎳+鉻和銅十鎳十鉻電沉積層》對GB9797-88進行修訂的;在技術內容上與該ISO標準等效,編寫規則符合GB/T1.1一1993.原標準GB9797—88《金屬覆蓋層鎳+鉻和銅十鎳十鉻電鍍層》是參照采用ISO1456:1974《金屬覆蓋層—一鎳十鉻電鍍層)和ISQ）1457:1974《金屬覆蓋層——銅十鎳十鉻電鍍層》制定的。ISO1456：1988《金屬覆蓋層——鎳十鉻和銅十鎳+鉻電沉積層》是ISO1456:1974和ISO1457：1974之修訂版。本標準自發布實施日起代替原GB9797—88《金屬覆蓋層鎳十鉻和銅十鎳+鉻電鍍層》。本標準的附錄A是標準的附錄。本標準的附錄B是提示的附錄.本標準由中華人民共和國機械工業部提出本標準由全國金屬與非金屬覆蓋層標準化技術委員會歸口本標準負責起草單位：機械工業部武漢材料保護研究所。本標準參加起草單位：湖北進出口商品檢驗局、上海永生助劑廠、電子工業部工藝研究所本標準主要起草人：楊明安、何邵新、李映明、沈品華、余東林、毛祖國。本標準首次發布1988年9月。

GB/T9797-1997ISO前言ISO(國際標準化組織)是各國家標準團體(ISO成員團體)的全世界聯合。制定國際標準的工作,般由ISO技術委員會進行,各成員團體如對某一技術委員會確定的主題感興趣,有權向該委員會陳述與ISO有聯系的政府、非政府的國際組織也可參加工作。在電子標準化的各方面,ISO與國際電工委員會(IEC)密切合作。枝技術委員會通過的國際標準草案，在ISO理事會采納為國際標準之前.先送各成員團體認可。按照ISO程序，參與投票的成員團體至少要有75%認可,才算通過。國際標準ISO1456由ISO/TC107金屬和其他無機覆蓋層技術委員會制定此第二版取代同時注銷第一版(ISO1456:1974），是國際標準ISO1457：1974的修訂。使用者應注意·所有國際標準都會被修訂。因此，除非另有說明,本標準參考的其他國際標準均是其最新版本，

中華人民共和國國家標準屬層金GB/T9797-1997cqvISO1456:1988鎳+鉻和銅十鎳+鉻電沉積層代祥GB9797-88Metalliccoatings-Eiectrodepositedcoatingsofnickelpluschromiumandofcoppeplusnickelpluschromium1范圍本標準規定了在鋼鐵、鋅合金、銅和銅合金、鋁和鋁合金上裝飾和防護性鎳十鉻和銅十鎳十鉻電沉積層的要求。給出了厚度和種類不同的幾級鍍層以及暴露于相應服役條件的鍍般件鍍層級別選擇指南。本標準適用于鋼鐵、鋅合金、銅和銅合金、鋁和鋁合金上裝飾和防護性鎳十鉻和銅十鎳十鉻電沉積原本標準未規定電鍍前的基體金屬所要求的表面狀態本標準不通用于未加工成形的板材、帶材、線材，也不適用于螺紋緊固件或密圈彈簧上的鎳十鉻或銅十鎳十鉻電沉積層工程用鎳和鉻電鍍層的要求分別見GB12332和GB11379。2用于裝飾防護的沒有鉻表層的類似鍍層的要求見GB/T9798.2引用標準下列標準所包含的條文.通過在本標準中引用而構成為本標準的條文。本標準出版時，所示版本均為有效。所有標準都會被修訂。使用本標準的各方應探討使用下列標準最新版本的可能性。GB/T4955一1997金屬覆蓋層毅蓋層厚度測量陽極溶解庫侖法(eqvISO2177:1972)GB5270—85金屬基體上的金屬覆蓋層(電沉積和化學沉積層)附著強度試驗方法(eqvIS02819:1980）GB6462一86金屬和氧化物覆蓋層橫斷面厚度顯微鏡測量方法(eqvISO1463:1982)GB6465一86金屬和其它無機覆蓋層腐蝕膏腐蝕試驗(CORR試驗）eqvISO4541:1978)GB/T9798一1997金屬覆蓋層鎳電沉積層(eqvISO1458:1988)GB11379—89金屬毅蓋層工程用鉻電鍍層(neqISO6158:1984)GB12332-90金屬羅蓋層工程用鎳電鍍層(eqvISO4526:1985)GB12334-90金屬和其他非無機覆蓋層關于厚度測量的定義和一般規則（eqvISO2064:1980)GB12609-90電沉積金屬覆蓋層和有關精飾計數抽樣檢查程序(eqvISO4519:1980)GB/T13744-92磁性及非磁性基體上鎳電鍍層厚度的測量(idtISO2361:1982)GB/T16921—199