GB/T 16527-1996硬面感光板中光致抗蝕劑和電子束抗蝕劑規范

Tc9.31200中華人民共和國國家標準GB/T16527-1996硬面感光板中光致抗蝕劑和電子束抗蝕劑規范Specificationforphotoresist/E-beamresistforhardsurfacephotoplates1996-09-09發布1997-05-01實施國家技術監督局發布

GB/T16527-1996前三本標準等效采用SEMI標準SEMIP3—90《硬面感光板中光致抗蝕劑和電子束抗蝕劑規范》.本標準第5章要求中5.2條和5.3條均按SEMIP3-90制定，且根據產品使用方的需要，增加了5.1條抗蝕劑涂層性能。SEMI標準是半導體設備和材料國際標準,具有較高的科學性和先進性，內容全面，標準配套。本標準與已經轉化為我國標準的SEMIP1-92《硬面光掩?；濉罚℅B/T15871一1995）、SEMIP2一86《硬面光掩模用鉻薄膜》（GB/T15870—1995)、SEMIP4-92圓形石英玻璃光拖?；逡幏丁?GB/T16523-1996)、SEMIP6-88《光推模對準標記規范》GB/T16524-1996)及準備轉化為我國標準的SEMIP21-92《拖模瞬光系統準確度表示準則》、SEMIP19—92《用于集成電路制造技術的檢測圖形單元規范》等項標準形成一個微型構圖標準系列。本標準附錄A是提示的附錄。本標準由中華人民共和國電子工業部提出。本標準由電子工業部標準化研究所歸口，本標準起草單位：長沙韶光微電子總公司、電子工業部標準化研究所.本標準主要起草人：談仁良、吳保華、王亦林、韓艷芬、

中華人民共和國國家標準硬面感光板中光致抗蝕劑和GB/T16527-1996電子束抗蝕劑規范Specificationforphotoresist/E-beamresistforhardsurfacephotoplates1范圍本標準規定了硬面感光板中光致抗蝕劑和電子束抗蝕劑涂層的要求、試驗方法等內容本標準適用于硬面感光板中光致抗蝕劑和電子束抗蝕劑的涂層檢驗引用標準下列標準所包含的條文，通過在本標準中引用而構成為本標準的條文。本標淮出版時，所示版本均為有效。所有標準都會被修訂，使用本標準的各方應探討使用下列標準最新版本的可能性。GB191一90包裝儲運圖示標志GB2828—87逐批檢查計數抽樣程序及抽樣表(適用于連續批的檢查)GB2829—87周期檢查計數抽樣程序及抽樣表(適用于生產過程穩定性的檢查)GB7238—87玻璃及鉻版表面平整度的測試方法GB7239—87鉻版鉻膜和膠膜厚度的測試方法GB/T15871一1995硬面光搶模基板GB/T15870—1995硬面光掩模用鉻薄膜SJ/T10584—94微電子學光拖蔽技術術語3定義本標準采用SJ/T10584中的定義。4分類與命名抗蝕劑涂層符合本標準的硬面感光板基板應滿足GB/T15871和GB/T15870規定的要求。抗蝕劑的分類與型號命名按附錄A(提示的附錄)規定，主要依據如下(訂貨文件中應子注明)：a）抗蝕劑材料；b）在質量區內抗蝕劑的厚度及其公差；c）整個質量區抗蝕劑的均勾性;d）板與板之間抗蝕